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基于NI CompactRIO的高精度研磨系统的设计与实现
作者:    发布于:2017-11-13 14:22:06    文字:【】【】【
摘要:"NI CompactRIO和LabVIEW开发环境无缝连接使用户轻松的通过图形化开发环境访问底层硬件,快速建立嵌入式系统控制和数据采集应用,大大降低了系统开发、 生产的技术风险。"

  "NI CompactRIO和LabVIEW开发环境无缝连接使用户轻松的通过图形化开发环境访问底层硬件,快速建立嵌入式系统控制和数据采集应用,大大降低了系统开发、 生产的技术风险。"

  - Mao Rong Deng , Dongguan Xinke Magnetic Electrical Product Factory, China

  挑战:

  开发一电子材料的研磨系统方案,系统软件提供高级的气动闭环压力控制,数据采集,和远程控制的功能。同时保证研磨的精度为1um。

  解决方案:

  使用NI CompactRIO和NI LabVIEW软件实时测量和控制设备状态,并利用FPGA超强的时钟特性,解决了研磨精度从10um提高到1um的难题。结合LabVIEW和Compact的网络特性通过Ethernet将设备联入工厂数据中心同步所有信息。

               北京龙腾鼎辉科技有限公司 京ICP备15038920号